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  • 日化級化妝品原料甘草次酸*
    日化級化妝品原料甘草次酸*

    化妝品原料甘草次酸*、 【英文名稱】:glycyrrhetic acid 外 觀:白色粉狀晶體 含量:≥98.0% 比旋光度[α]20D:+1600~+1700 熔點(diǎn):285.0℃~297.0℃ 干燥失重:≤1.0% 灼燒殘?jiān)骸?.1% 氯化物(以Cl計(jì)):<0.05% 硫酸鹽(以SO4計(jì)):<0.05%

    更新時(shí)間:2023-12-14型號:日化級瀏覽量:544
  • 日化級化妝品原料苯乙基間苯二酚*
    日化級化妝品原料苯乙基間苯二酚*

    化妝品原料苯乙基間苯二酚* 建議添加量為:0.1-1.0%。 理化指標(biāo): 外觀:白色至米色粉末 氣味:特殊性氣味 熔點(diǎn):78-82℃ 含量:≥99% 水分:≤0.1% 包裝規(guī)格: 25Kg紙板桶 保質(zhì)期: 陰涼干燥處24個(gè)月

    更新時(shí)間:2023-12-14型號:日化級瀏覽量:708
  • 日化級化妝品原料氨甲環(huán)酸*
    日化級化妝品原料氨甲環(huán)酸*

    化妝品原料氨甲環(huán)酸* CAS RN 1197-18-8;701-54-2 英文名稱 tranexamic acid EINECS號 214-818-2 分 子 式 C8H15NO2 分 子 量 157.2102 物化性質(zhì) 白色結(jié)晶性粉末。無臭。味微苦。鹽酸鹽熔點(diǎn)247-251℃,易溶于水。不溶于醇及l(fā)v仿。

    更新時(shí)間:2023-12-14型號:日化級瀏覽量:610
  • 日化級化妝品原料阿魏酸*
    日化級化妝品原料阿魏酸*

    化妝品原料阿魏酸* 英文名稱: 4-Hydroxy-3-methoxycinnamic acid CAS號: 1135-24-6 分子式: C10H10O4 分子量: 194.18 EINECS號: 208-679-7 熔點(diǎn):168-172 °C(lit.) 儲存條件:-20°C Freezer

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  • 日化級化妝品原料γ-聚谷氨酸廠家*
    日化級化妝品原料γ-聚谷氨酸廠家*

    化妝品原料γ-聚谷氨酸廠家* γ-聚谷氨酸 英文名γ-Polyglutamic acid CAS號: 25513-46-6 性質(zhì):白色粉末 含量:98% 92% 分子式: L-Glu-(L-Glu)n-L-Glu

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